三氟硅烷

化合物

三氟硅烷是一種無機化合物,可以由甲硅烷的三個氫原子被氟取代而成。

三氟硅烷
識別
CAS號 13465-71-9
PubChem 139462
SMILES
 
  • F[SiH](F)F
性質
化學式 SiHF3
摩爾質量 86.09 g·mol⁻¹
外觀 無色氣體 [1]
密度 3.52 g·L[1]
熔點 −131 °C[1]
沸點 −95 °C[1]
相關物質
相關化學品 甲硅烷
一氟硅烷
二氟硅烷
四氟化硅
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。

製備 編輯

三氟硅烷可以由三氯硅烷三氟化銻氟化鋅四氟化鈦[2] 反應而成。[3][4]

 
 

三氟硅烷也可以由二氟硅烷熱分解取得。 [5] 這個反應是由Otto Ruff德語Otto Ruff在20世紀初提出的。 [6]

性質 編輯

三氟硅烷是一種無色易燃氣體,會水解並在室溫下緩慢分解。當加熱到400℃時,它迅速分解為四氟化硅。它恢分解醇和醚,並降低濃硝酸的濃度。它與空氣反應,形成爆炸性氣體的混合物。 [2]

參考資料 編輯

  1. ^ 1.0 1.1 1.2 1.3 William M. Haynes. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press. 2016: 87. ISBN 978-1-4398-8050-0. 
  2. ^ 2.0 2.1 Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 254.
  3. ^ C. C. Addison. Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements. Royal Society of Chemistry. 1973: 188. ISBN 0-85186-752-9. 
  4. ^ Leopold Gmelin. Silicon: Supplement volume. Springer-Verlag. 1996: 82. ISBN 3-540-93728-5. 
  5. ^ Theodore M. Besmann. Proceedings of the Thirteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition. The Electrochemical Society. 1996: 203. ISBN 1-56677-155-2. 
  6. ^ Helmut Werner. Geschichte der anorganischen Chemie Die Entwicklung einer Wissenschaft in Deutschland von Döbereiner bis heute. John Wiley & Sons. 2016: 38. ISBN 978-3-527-33907-5.